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创新成就卓越 CIMES2014雷尼绍重磅来袭

2014-06-10  来源:金属加工在线  

  自1992年以来,中国国际机床工具展览会 (CIMES) 每逢双年在北京举办,深受海内外制造业、设备用户以及外贸流通企业的欢迎和支持。CIMES 2014将于2014年6月18日至22日在北京新国际展览中心隆重举行。届时,世界领先的测量与过程控制解决方案供应商 - 雷尼绍公司将携旗下Equator™比对仪、SPRINT™机内接触式扫描系统、AM250激光熔融金属快速成型机、精密位置反馈系统、坐标测量机五轴测座、激光干涉仪系统及球杆仪等一系列最新产品重磅来袭。

  雷尼绍将一如既往地提供世界领先的产品和解决方案,以期提升贵企业的生产效率和竞争力。

  欢迎您莅临雷尼绍展位,展位号W1-A602

  技术交流会

  雷尼绍还将于6月19日下午举办一场主题为“生产制造中的全面过程控制技术”的技术交流会(会议室:W-104)。

  会上,雷尼绍技术培训经理陈云春先生将与您一起探讨在生产制造过程中,应用“金字塔”过程控制技术控制整个生产流程,包括从掌控机床精度状况到工件加工前的找正定位、加工中的参数自动补偿,再到工件各工序间的主动抽检,以及产品首件的确认等,从而最大限度地降低废品率,提高生产效率。

  相信此次讲座可以为客户提供一个全面过程控制技术的交流平台,真诚期待您的参与!

  欲参加技术交流会,请致电021-6180 6416了解详情。

  Equator多功能比对仪

Equator多功能比对仪

  新款雷尼绍Equator比对仪是定制测量的多功能替代方案。该系统是一款由软件控制的比对仪,其性能在多个行业及应用中得以验证和改进,是传统专用测量的全新替代方案。比对仪具有高度重复性和基于并联机械定位结构的独特测量机构,被誉为“一种全新的测量方法,其并联运动结构可实现快速测量”。

  SPRINT机内接触式扫描系统

SPRINT机内接触式扫描系统

  SPRINT系统无与伦比的高速、高精度扫描功能将令数控机床如虎添翼。SPRINT可记录工件表面一组连续点的精确3D位置,并在数控系统中实时分析这些数据 - 这将为自动化序中控制带来前所未有的变革。为充分发挥SPRINT系统所融合的先进技术与性能,雷尼绍发布了一系列针对特定行业的应用程序,助力机加工行业轻松升级至新一代机内测头测量技术 -“扫描测量”。

  AM250激光熔融金属快速成型机

AM250激光熔融金属快速成型机

  雷尼绍的激光熔融工艺是一种新兴的快速成型制造技术(又称“增材制造”或“3D打印”),适合于设计和生产结构复杂的零部件。该技术直接根据三维CAD分层的各界面数据生产全高密度金属零件,熔化制成金属层厚度从20微米到100微米的二维截面,从而构成三维模型,适合用于航空航天和医疗领域。雷尼绍将在展会上展示由AM250生产的具有复杂几何形状的样品,启发您的设计灵感。

  AM250在设计时以制造业为本,带有方便的触摸屏用户界面,结构坚固耐用。从植入式装置的批量生产到复杂晶格结构或用于航空航天的各种几何形状的制造,AM250能够满足制造体系的各种要求。

  XR20-W无线型回转轴校准装置

XR20-W无线型回转轴校准装置

  XR20-W采用无线电动控制,数据采集与轴运动同步,即在数据采集期间无需操作员干预。该装置与雷尼绍激光系统配合使用,通过远控的方式为被测机床提供高度统一的非接触基准测量。使用XR20-W回转轴校准装置及早对回转轴进行误差检测,能够使机床发挥最佳性能。

  XL-80激光干涉仪

XL-80激光干涉仪

  XL-80激光干涉仪不仅可测量直线定位、俯仰及扭摆角度、直线度及垂直度等静态几何精度,还可用于机器振动、频谱分析、运动速度及角速度测量分析等动态场合。它广泛应用在数控机床及坐标测量机精度检测、计量器具(包括部分光学仪器)的溯源检定及其他大范围、高精度、高速动态测量等工业领域。

  PH20五轴触发式测座

PH20五轴触发式测座

  PH20测座大大改进了各种坐标测量机 (CMM) 的测量性能,可根据工件坐标系自动找正,并具有快速校正程序。PH20测座采用了为REVO®测量系统(荣获五项国际大奖)而开发的技术。它运用独特的“测座碰触”方法进行快速触发测量和快速五轴无级定位,确保实现最佳工件测量。

  ATOM™增量式光栅系统

ATOM™增量式光栅系统

  ATOM是雷尼绍推出的一款全新增量式光栅系统,包括直线光栅和圆光栅两种。ATOM最小尺寸可达6.7 mm x 12.7 mm x 20.5 mm,是世界上第一款采用光学滤波系统及自动增益控制 (AGC) 和自动偏置控制 (AOC) 的微型光栅。这款非接触式光栅系统采用独特的创新设计,将微型化与优异的抗污能力、信号的稳定性和可靠性完美结合。新光栅在设计上避免了一直以来制约微型光栅的诸多因素。

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